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5 月 17 日，據(jù)日媒報道，佳能公司在半導(dǎo)體光刻機業(yè)務(wù)上已展現(xiàn)出復(fù)蘇的強勁勢頭。盡管過去在與荷蘭阿斯麥和尼康的競爭中，佳能未能成功生產(chǎn)出 ArF 浸沒式光刻機和 EUV（極紫外）光刻機，但近期他們通過推出納米壓印光刻裝置（nanoimprint lithography），成功奪回了在尖端封裝用途市場的主導(dǎo)地位。這一技術(shù)突破使佳能再次站
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行業(yè)調(diào)研數(shù)據(jù)顯示，芯片行業(yè)的產(chǎn)值和營收一直在不斷提高，同時其地位受到大眾的關(guān)注。光刻機在芯片領(lǐng)域當(dāng)然獨占鰲頭，但一顆芯片的成功不只取決于光刻部分，測試對芯片的質(zhì)量更有不容忽視的意義。行業(yè)調(diào)研數(shù)據(jù)顯示，芯片行業(yè)的產(chǎn)值和營收一直在不斷提高，同時其地位受到大眾的關(guān)注。光刻機在芯片領(lǐng)域當(dāng)然獨占鰲頭，但一顆芯
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4 月 22 日消息，英特爾近日宣布完成世界首臺商用 High NA EUV光刻機的安裝。而在上周的一場電話會議上，英特爾院士馬克?菲利普斯（Mark Phillips）表示這臺耗資約 3.5 億美元（當(dāng)前約 25.38 億元人民幣）的龐然大物年內(nèi)就將啟用。菲利普斯是英特爾代工旗下邏輯技術(shù)開發(fā)部門的光刻、硬件和解決方案主管。他表示英特爾
